中央美术学院设计学院摄影考研的注意事项如下：

一，初审材料准备：

作品集：

内容质量：作品集中应包含能体现个人摄影水平和创作能力的作品，包括不同主题、风格和类型的摄影作品，如人像摄影、风光摄影、纪实摄影、观念摄影等。作品要具有较高的艺术水准和技术水平，注重构图、光影、色彩等方面的表现。

数量与规格：按照要求准备 A4 大小、30 页以内的作品集。注意排版和装订的美观性与专业性，封面要写清姓名及报考方向，方便评审老师查看。

创作过程展示：可以适当加入一些作品的创作过程记录，如拍摄地点、拍摄思路、后期处理过程等，让评审老师更好地了解你的创作思维和实践能力。

个人学术论文：

主题相关性：论文主题最好与摄影专业相关，例如摄影技术的发展与应用、摄影艺术的创作理念与实践、摄影史的研究等。结合自己的兴趣和研究方向，选择一个具有一定深度和创新性的主题进行论述。

学术规范：严格按照学术论文的格式进行写作，包括摘要、关键词、引言、正文、结论、参考文献等部分。观点表述要清晰，语言流畅，论证充分，能够体现出一定的写作与研究能力。

文献引用：在论文中引用相关的学术文献和资料，以支持自己的观点和论述。引用文献时要注意规范标注，避免抄袭和剽窃行为。

对研究方向的思考与认识：一篇 500 字以内对所报摄影研究方向的思考与认识要简洁明了，突出重点。阐述自己对该研究方向的理解、兴趣点以及未来的研究计划和目标，展现出自己的专业素养和学习热情。

二，专业科目备考：

专业基础：主要考验考生的基本美术功底和摄影基础理论知识。复习时要注重对摄影技术、构图原理、色彩理论等基础知识的掌握，同时加强素描、速写等基础绘画能力的训练，以便能够在考试中准确地表达自己的想法和创意。

专业创作：更加注重考生的创新能力和艺术表现力。平时要多关注摄影领域的前沿动态和优秀作品，积累创作素材和灵感。在练习创作时，要认真审题，根据题目要求进行构思和创作，注重作品的独特性和艺术性。

三，艺术理论学习：

复试中的艺术理论考试为闭卷知识考察，题目全部为设计相关的各类艺术史、美术知识，因此需要提前对摄影史、艺术史、设计史等相关理论知识进行系统的学习和背诵，并进行试题演练，提高答题的速度和准确率。

四，面试准备：

自我阐述：准备好简洁而有重点的自我介绍，包括个人的学习经历、摄影实践经验、研究成果等。在介绍作品时，要能够清晰地阐述作品的创作背景、主题、表现手法和艺术价值。

导师提问：提前了解中央美术学院设计学院摄影专业的导师团队及其研究方向，预测可能会被问到的问题，并做好回答的准备。问题可能涉及专业知识、创作理念、未来规划等方面，要保持自信、真诚的态度，积极与导师进行交流。

五，关注考试信息和时间节点：

密切关注中央美术学院官方网站发布的考研信息，包括报名时间、初审材料提交时间、考试时间等，确保按时完成各项报名和考试流程。

六，心态调整：

考研过程中可能会遇到各种困难和压力，要保持良好的心态，积极应对挑战。合理安排学习时间和休息时间，保持身心健康，提高学习效率。